第352章

康最新款的光刻机来拆着研究时，李秀成想起了一件事。

前世日本在光刻技术上一直领先到了2003年。

但光刻机的光源波长一直被卡死在193nm左右，成为了摆在全产业面前的一道难关。

而光刻机技术精度其实是在2000年左右才开始突飞猛进的，而这一切只因为一个人和一种技术。

后世的光刻机霸主ASML在2000年时和台积电关键人物林本坚达成了“浸入式光刻”合作研发协定，最终在04年靠着浸润式微影机优秀的性能和稳定的技术成功逆袭。